ITO靶材的基本介绍
主要成分：氧化铟（In2O3）和氧化锡（SnO2）
应用领域：液晶显示、OLED、太阳能电池、触摸屏等
靶材类型：新靶材、废靶材（使用后剩余靶材）
ITO靶材回收流程
1. 收集废靶材：收集来源：面板厂、镀膜厂等使用ITO靶材的企业。
2. 表面处理/预处理 ：清洗表面杂质、油污、物理去除残留膜层
3. 靶材分离：机械切割或分解、分离金属基板与ITO涂层
4. 湿法冶金回收：用酸（如硝酸、盐酸等）溶解ITO层、萃取液中回收铟和锡元素
5. 纯化与精炼 萃取、沉淀等精细化学手段，获得高纯度的铟、锡化合物
6. 再利用 提纯后的铟、锡用于制备新ITO靶材或其他用途
铟在半导体、液晶显示器等电子器件的生产中发挥着重要作用。铟靶材通常用于物相沉积（PVD）工艺中，制造薄膜。然而，铟靶材的成本高昂，且供应有限，因此从废弃或用过的靶材中回收铟变得至关重要。
铟靶材回收的主要任务是将铟从靶材中的其他金属和材料中分离出来，并将其提纯至高纯度。回收方法包括火法、湿法和电化学法。
火法冶金工艺使用高温熔炼和精炼来回收铟。这种方法适用于大规模回收，但存在一些缺点，如产生危险废物、高能耗，以及可能损失有价值的铟。
湿法冶金工艺利用化学浸出剂将铟从靶材中溶解出来。这种方法比火法更环保，适用于从成分复杂的靶材中回收铟。然而，这一过程可能较为复杂，需要使用危险化学品。
电化学过程通过电流将铟从靶材中溶解和回收。这种方法也比火法更环保，可以回收较高纯度的铟。但这一过程可能较为复杂，需要专门的设备和专业知识。
