ITO靶材的基本介绍 主要成分：氧化铟（In2O3）和氧化锡（SnO2） 应用领域：液晶显示、OLED、太阳能电池、触摸屏等 靶材类型：新靶材、废靶材（使用后剩余靶材）
ITO靶材主流回收技术 机械物理分离：适合较厚靶层，回收效率高。 湿法化学回收：利用酸碱进行溶解分离，适合大批量废靶材。 热处理工艺：部分回收方案采用高温分离，能耗较大。
铟在半导体、液晶显示器等电子器件的生产中发挥着重要作用。铟靶材通常用于物相沉积（PVD）工艺中，制造薄膜。然而，铟靶材的成本高昂，且供应有限，因此从废弃或用过的靶材中回收铟变得至关重要。
提纯铟的方法包括蒸馏法、电解法和区域精炼法。蒸馏通过高温蒸发和冷凝来提纯铟。电解利用电流来提纯铟。区域精炼则通过移动的熔融区来提纯铟。 总之，铟靶材回收是利用铟资源的重要步骤。尽管有多种回收方法，但分离和提纯铟仍是关键挑战。应继续努力提高回收效率和可持续性，以确保铟资源的长期可获得性。