ITO靶材的基本介绍 主要成分：氧化铟（In2O3）和氧化锡（SnO2） 应用领域：液晶显示、OLED、太阳能电池、触摸屏等 靶材类型：新靶材、废靶材（使用后剩余靶材）
ITO靶材回收流程 1. 收集废靶材：收集来源：面板厂、镀膜厂等使用ITO靶材的企业。 2. 表面处理/预处理 ：清洗表面杂质、油污、物理去除残留膜层 3. 靶材分离：机械切割或分解、分离金属基板与ITO涂层 4. 湿法冶金回收：用酸（如硝酸、盐酸等）溶解ITO层、萃取液中回收铟和锡元素 5. 纯化与精炼 萃取、沉淀等精细化学手段，获得高纯度的铟、锡化合物 6. 再利用 提纯后的铟、锡用于制备新ITO靶材或其他用途
ITO靶材主流回收技术 机械物理分离：适合较厚靶层，回收效率高。 湿法化学回收：利用酸碱进行溶解分离，适合大批量废靶材。 热处理工艺：部分回收方案采用高温分离，能耗较大。
铟元素在工业生产中发挥着举足轻重的作用。作为稀有金属，铟以其独特的性质被广泛应用于多个领域。其中，铟锭因其出色的光渗透性和导电性，成为生产ITO靶材的主要原料，这一应用占据了全球铟消费量的70%，是液晶显示器和平板屏幕生产的关键。